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U.S. Patent Formalities: Solving Challenges for Global Practitioners - The Guide to the Formal Requirements

Webinar - FORUM Institut für Management GmbH

- Relevant law, rules and guidelines for a U.S. patent application
- Requirements and formal documents
- Example filing of patent application - documents and amendments
- Prosecuting a U.S. patent application: objections/rejections, timing, RCE practice and appeals
- Post-issuance of a granted U.S. patent, i.a. Inter Partes and Post-Grant Reviews
- How to identify patentable innovations
Termin Ort Preis*
22.09.2025 online 1.368,50 €
*Alle Preise verstehen sich inkl. MwSt.

Detaillierte Informationen zum Seminar

Ziele/Bildungsabschluss:
Are you struggling with the complex formal requirements of U.S. patents? Do procedural mistakes delay your applications and increase costs? - Many practitioners face uncertainty about necessary papers, forms, and fee structures, while also grappling with understanding patent eligibility criteria under U.S. law. Managing counterpart applications across multiple jurisdictions presents additional challenges that can impact prosecution timelines and outcomes. - This comprehensive online course provides practical guidance to navigate and overcome the formal requirements of U.S. patent prosecution. Participants will learn: - - Essential papers, forms, and fees required for successful U.S. patent practice - Best practices for meeting formality requirements efficiently - Strategic approaches to successfully navigate prosecution of applications from filing to grant - Practical solutions to commonly encountered procedural problems - Critical differences between U.S. and European formalities - Specially tailored for patent administrators, this course offers in-depth understanding of the U.S. Patent System with emphasis on effective management of counterpart applications. Participants will have ample opportunity to raise questions on all procedural aspects and discuss real-world challenges with experienced professionals.
Seminarkennung:
FORUM
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